通過用于高級半導(dǎo)體制造的完整解決方案來提高工藝良率。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)車間中，微污染會帶來巨大的問題。捷霖凈化提供了廣泛的解決方案-顆粒預(yù)過濾器，HEPA和ULPA過濾器以及AMC控制解決方案-可以將無塵室中的顆粒物和分子濃度降低到顆粒物的ISO 1級水平和AMC的亞ppb水平。

AMC過濾器和控制比無塵室過濾更重要

空氣傳播的分子污染（AMC）對小尺寸半導(dǎo)體制造提出了特殊挑戰(zhàn)。酸，堿，有機(jī)物，耐火材料和摻雜劑的不良化學(xué)反應(yīng)會影響晶片表面和工藝設(shè)備的光學(xué)器件，從而在芯片生產(chǎn)過程中產(chǎn)生缺陷，并降低設(shè)備和工具的效率。

在關(guān)鍵的潔凈室制造過程中，AMC越來越重要。隨著規(guī)格要求的提高和設(shè)備尺寸的縮小，過程控制面臨巨大的壓力。晶圓可以在工廠內(nèi)呆上一個(gè)月的時(shí)間，在交付最終產(chǎn)品之前要經(jīng)過數(shù)百個(gè)過程。該工藝鏈中任何微小的污染影響都可能對晶圓廠的整體成品率造成嚴(yán)重影響。

另一個(gè)挑戰(zhàn)在于更大尺寸的晶圓的普遍化，這增加了單個(gè)晶圓的成本，并增加了在工具級別對納米顆粒和AMC保護(hù)的需求。此外，EUV和多圖案DUV光刻中使用的無缺陷掩模的成本不斷上漲，這給設(shè)施以及小型環(huán)境（如檢查設(shè)備和掩模庫存機(jī)）的污染控制系統(tǒng)帶來了壓力。

保護(hù)您的工藝設(shè)備和晶圓免受納米顆粒和空氣中的分子污染物的侵害

捷霖凈化解決方案在半導(dǎo)體制造環(huán)境中提供了經(jīng)過現(xiàn)場和實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證的保護(hù)，包括光刻，蝕刻，擴(kuò)散，金屬化，薄膜，離子注入，檢查工具以及標(biāo)線片或晶圓存儲區(qū)。

工藝工具空氣濾清器

潔凈室空氣過濾器

掃描儀預(yù)過濾系統(tǒng)

設(shè)施系統(tǒng)的節(jié)能高效排氣解決方案

廣州捷霖凈化的顆粒物預(yù)過濾器系列可確保在補(bǔ)充空氣處理機(jī)組中使用最低的能量，同時(shí)防止HEPA過濾器堵塞并且不釋放硼。經(jīng)過多年的膠粘劑和介質(zhì)化學(xué)性能的發(fā)展，捷霖凈化的HEPA和ULPA過濾器旨在釋放出盡可能少的有機(jī)污染物（所謂的低放氣）。用于晶圓切割的排氣系統(tǒng)以及用于通用排氣備用系統(tǒng)的氣體洗滌器可以保護(hù)環(huán)境免受工藝污染。

無硼合成預(yù)濾器

低能量預(yù)過濾器

低放氣的HEPA和ULPA過濾器

灰塵收集器和氣體洗滌器，可產(chǎn)生更清潔的廢氣